工作职责

1.光刻工艺条件开发,保障光刻测试稳定性；

2.对光刻测试的异常可以独立分析,保障测试结果的可靠性；

3.能够独立完成测试报告,并且对测试数据进行分析,得出结论；

4.进行光刻工艺改善,对研发部门给出改善建议,推进研发进度；

5.参与光刻设备维护,调试,按时移交满足产能需求。

能力要求

1.掌握NIKON,CANON,ASML的Krf系列曝光设备操作方法；

2.掌握突觉显影剂Lithius及以上型号的设备操作方法及程序编辑；

3.掌握日立HITCHAI系列CDSEM使用方法；

4.了解膜厚仪的测量,了解光刻胶切片设备；

5.具有良好的沟通能力,团队合作精神。

任职资格

1.具有2年以上光刻工艺经验-FAB工作经验优先；

2.本科及以上学历,化学/微电子/光学等相关专业。