深圳华盛光刻系统有限公司创始团队是半导体装备的顶尖成熟团队，负责项目的整体策划、技术路线把关和资源整合；将发挥全球半导体领域的行业号召力，为本项目引进来自日本、韩国、中国大陆和中国台湾等海内外的资深工程师团队；项目核心团队成员均来自国际光罩行业的头部公司，行业从业经验平均超过20年，掌握中高阶光罩生产开发技术、光罩制程技术和资料处理等技术。计划自主生产光掩膜版：半导体芯片先进制程工艺不断发展，华盛先进光刻制造基地，一期技术节点目标，将掌握成熟的700nm、500nm、180nm、130nm及以上光掩膜制造工艺。